半導體檢測分析廠汎銓（6830）公告2月合併營收1.08億元，創下 歷年同期新高，主要受惠於2奈米先進製程及第三類寬能隙（WBG）半 導體的材料分析（MA）及故障分析（FA）等接單保持成長動能。今年 以來汎銓客戶仍保持強勁分析委案需求，隨著兩岸事業布局開展順利 ，樂觀看待今年營收及獲利續創新高紀錄。
汎銓公告2月合併營收月減18.5％達1.08億元，較去年同期成長26 .0％，為歷年同期歷史新高，累計前二個月合併營收2.40億元，較去 年同期成長29.0％，亦創歷年同期新高紀錄，延續去年營運成長動能 。
汎銓表示，近年積極深化兩岸地區半導體分析檢測業務版圖，提高 旗下MA及FA等檢測服務市場占有率表現，受惠半導體上下游主要客戶 加大資本支出投入布局先進製程領域，以及因應氮化鎵（GaN）及碳 化矽（SiC）等第三類半導體材料應用趨勢，帶動旗下MA及FA檢測服 務委案量保持良好成長力道。
汎銓表示，為有效解決主要客戶製程生產良率優化，去年第四季採 取擴增檢測分析設備、持續進行專業人才招募與培訓等策略，以滿足 客戶分析訂單需求，在整體策略效益逐步展現下，創造汎銓2月營收 刷新歷年同期新高水準。
汎銓指出，隨著後摩爾時代的來臨，晶片尺寸朝微縮化、效能增加 、功率耗損減少發展，大幅提升整體半導體生產製程良率難度。汎銓 與客戶保持密切良好合作基礎，有效提供高準確度與即時性的半導體 研發製程分析解決方案，並全力拓展兩岸事業布局，以期挹注整體營 運保持良好成長動能。
汎銓MA營收占比逾八成，由於先進製程的極紫外光（EUV）光阻及 低介電材料十分脆弱，汎銓採用真空鍍膜技術推出獨有的無損傷工法 ，能確保材料分析結果精確。隨著先進製程研發能量轉向下世代2奈 米，且首度採用全新的環繞閘極（GAA）電晶體架構，凡銓2奈米接案 進入新的成長循環，對今年營運抱持樂觀看法。法人推估汎銓今年營 收較去年成長30～40％。摘錄工商
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